富士通研究所开发出了把硬盘盘片的润滑剂厚度减至原来70％以下的技术。该技术可提高硬盘可靠性。面记录密度可达1Tbit/inch2，目标是2010年之后达到实用水平。目前硬盘磁头与盘片间的距离约为10nm，其中润滑剂就占了2nm。